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文献
J-GLOBAL ID：200902185178732120
整理番号：99A0852975
有機金属化学蒸着により作製したRu及びRuO2薄膜の性質
Properties of Ru and RuO2 Thin Films Prepared by Metalorganic Chemical Vapor Deposition.
CHOI Y C
(Chonbuk National Univ., Chonbuk, KOR)
,
LEE B S
(Chonbuk National Univ., Chonbuk, KOR)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 38 号： 8 ページ： 4876-4880 発行年： 1999年08月15日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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