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文献
J-GLOBAL ID：200902185202460137
整理番号：00A0223369
SiGe傾斜組成バッファ層の超高速蒸着に対するプラズマ過程
A plasma process for ultrafast deposition of SiGe graded buffer layers.
ROSENBLAD C
(ETH-Zuerich, Zuerich, CHE)
,
VON KAENEL H
(ETH-Zuerich, Zuerich, CHE)
,
KUMMER M
(Interstaatliche Fachhochsch. Technik Buchs, Buchs, CHE)
,
DOMMANN A
(Interstaatliche Fachhochsch. Technik Buchs, Buchs, CHE)
,
MUELLER E
(PSI, Villigen, CHE)
資料名：
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻： 76 号： 4 ページ： 427-429 発行年： 2000年01月24日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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