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J-GLOBAL ID：200902185248582342 整理番号：00A0262709

赤外自由電子レーザ照射によるシリコン同位体濃縮

Silicon Isotope Separation by the Irradiation of Infrared Free Electron Laser.

著者 (4件)：

野田哲二

(金材技研)

鈴木裕

(金材技研)

LYMAN J L

(Los Aiamos National Lab., New Mexico., USA)

NEWNAM B E

(Los Aiamos National Lab., New Mexico., USA)

資料名：

日本金属学会誌 (Journal of the Japan Institute of Metals and Materials)

巻： 64 号： 2 ページ： 174-175 発行年： 2000年02月20日
JST資料番号： G0023A ISSN： 0021-4876 CODEN： NIKGAV 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：短報発行国：日本 (JPN) 言語：日本語 (JA)

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