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J-GLOBAL ID:200902185266346486   整理番号:95A0555121

選択W-CVD原料ガスのW表面及びSiO2表面における解離吸着反応の計算機解析

Computational study on dissociative adsorptions of source gases for selective W-CVD.
著者 (3件):
入江亮太郎
(日立 中研)
中村吉孝
(日立 中研)
小林伸好
(日立 中研)

資料名:
応用物理学関係連合講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Spring Meeting. Japan Society of Applied Physics and Related Societies)

巻: 42nd  号: Pt 2  ページ: 702  発行年: 1995年03月 
JST資料番号: Y0054A  資料種別: 会議録 (C)
発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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