文献
J-GLOBAL ID:200902185403277535
整理番号:93A0673530
Cp2Ti(N3)2を用いた化学蒸着で作製したTiN薄膜
TiN Thin Film Prepared by Chemical Vapor Deposition Method Using Cp2Ti(N3)2.
著者 (3件):
IKEDA K
(NTT LSI Lab., Kanagawa)
,
MAEDA M
(NTT LSI Lab., Kanagawa)
,
ARITA Y
(NTT LSI Lab., Kanagawa)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻:
32
号:
6B
ページ:
3085-3088
発行年:
1993年06月
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)