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文献
J-GLOBAL ID：200902185476974390
整理番号：98A0950495
(100)(ZrO2)1-x(Y2O3)x/(100)Si構造上にスパッタしたIr及びPb(ZrxTi1-x)O3ヘテロエピタキシャル膜の材料特性
Material Properties of Heteroepitaxial Ir and Pb(ZrxTi1-x)O3 Films on (100)(ZrO2)1-x(Y2O3)x/(100)Si Structure Prepared by Sputtering.
HORITA S
(Japan Advanced Inst. Sci. and Technol., Ishikawa, JPN)
,
HORII S
(Japan Advanced Inst. Sci. and Technol., Ishikawa, JPN)
,
UMEMOTO S
(Japan Advanced Inst. Sci. and Technol., Ishikawa, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 37 号： 9B ページ： 5141-5144 発行年： 1998年09月
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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