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文献
J-GLOBAL ID：200902185478702886
整理番号：00A0921702
Si基板のプラズマ誘起損傷のフォトリフレクタンスによる評価
Photoreflectance characterization of the plasma-induced damage in Si substrate.
WADA H
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
AGATA M
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
ERIGUCHI K
(Matsushita Electric Industrial Co. Ltd., Osaka, JPN)
,
FUJIMOTO A
(Wakayama National Coll. Technol., Wakayama, JPN)
,
KANASHIMA T
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
OKUYAMA M
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
資料名：
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻： 88 号： 5 ページ： 2336-2341 発行年： 2000年09月01日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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