文献
J-GLOBAL ID:200902185563292123
整理番号:95A0458003
低温プラズマトーチによる空気中のフォトレジスト灰化: 陰極材料の接触分析
Open air photoresist ashing by a cold plasma torch: Catalytic effect of cathode material.
著者 (4件):
INOMATA K
(Tokyo Inst. Technol., Kanagawa, JPN)
,
KOINUMA H
(Tokyo Inst. Technol., Kanagawa, JPN)
,
OIKAWA Y
(Tokai Univ., Kanagawa, JPN)
,
SHIRAISHI T
(Tokai Univ., Kanagawa, JPN)
資料名:
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻:
66
号:
17
ページ:
2188-2190
発行年:
1995年04月24日
JST資料番号:
H0613A
ISSN:
0003-6951
CODEN:
APPLAB
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)