文献
J-GLOBAL ID:200902185854998830
整理番号:97A0566045
超高アスペクト比のコンタクトホールエッチングの評価
Characteristics of Very High-Aspect-Ratio Contact Hole Etching.
著者 (5件):
IKEGAMI N
(Oki Electric Ind. Co., Ltd., Tokyo, JPN)
,
YABATA A
(Oki Electric Ind. Co., Ltd., Tokyo, JPN)
,
MATSUI T
(Oki Electric Ind. Co., Ltd., Tokyo, JPN)
,
KANAMORI J
(Oki Electric Ind. Co., Ltd., Tokyo, JPN)
,
HORIIKE Y
(Toyo Univ., Saitama, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻:
36
号:
4B
ページ:
2470-2476
発行年:
1997年04月
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)