文献
J-GLOBAL ID:200902185910537832
整理番号:93A0247890
けい素ウエハにおける全反射X線蛍光分析の基本的特徴
Basic features of total-reflection X-ray fluorescence analysis on silicon wafers.
著者 (1件):
BERNEIKE W
(ATOMIKA Analysetechnik GmbH, Oberschleissheim, DEU)
資料名:
Spectrochimica Acta. Part B. Atomic Spectroscopy
(Spectrochimica Acta. Part B. Atomic Spectroscopy)
巻:
48
号:
2
ページ:
269-275
発行年:
1993年02月
JST資料番号:
B0793A
ISSN:
0584-8547
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)