文献
J-GLOBAL ID:200902186010541997
整理番号:03A0019625
F2レーザを用いたシリコーン・ラバーに対するSiO2突起の作製
Fabrication of SiO2-Humps on Silicone Rubber Using F2 Laser.
著者 (3件):
TAKAO H
(National Defense Acad., Yokosuka, JPN)
,
OKOSHI M
(National Defense Acad., Yokosuka, JPN)
,
INOUE N
(National Defense Acad., Yokosuka, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters)
巻:
41
号:
10A
ページ:
L1088-L1089
発行年:
2002年10月01日
JST資料番号:
F0599B
ISSN:
0021-4922
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)