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文献
J-GLOBAL ID：200902186238069457
整理番号：93A0682401
酸化ジルコニウムの反応性スパッタ蒸着におけるイオンビーム電流によるプロセス制御
The use of the ion beam current as a process control in the reactive sputtering of zirconium oxide.
YOSHITAKE M
(Osaka Prefectural Industrial Technology Research Inst., Osaka, JPN)
,
NOSAKA T
(Osaka Prefectural Industrial Technology Research Inst., Osaka, JPN)
,
OKAMOTO A
(Osaka Prefectural Industrial Technology Research Inst., Osaka, JPN)
,
OGAWA S
(Osaka Prefectural Industrial Technology Research Inst., Osaka, JPN)
資料名：
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻： 230 号： 1 ページ： 48-54 発行年： 1993年07月15日
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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