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文献
J-GLOBAL ID：200902186560494457
整理番号：00A0083262
フラーレン誘導体電子ビームレジストの照射機構
Exposure mechanism of fullerene derivative electron beam resists.
ROBINSON A P G
(Univ. Birmingham, Birmingham, GBR)
,
PALMER R E
(Univ. Birmingham, Birmingham, GBR)
,
TADA T
(National Inst. Advanced Interdisciplinary Res., Ibaraki, JPN)
,
KANAYAMA T
(National Inst. Advanced Interdisciplinary Res., Ibaraki, JPN)
,
SHELLEY E J
(Univ. Birmingham, Birmingham, GBR)
,
PHILP D
(Univ. Birmingham, Birmingham, GBR)
,
PREECE J A
(Univ. Birmingham, Birmingham, GBR)
資料名：
Chemical Physics Letters
(Chemical Physics Letters)
巻： 312 号： 5/6 ページ： 469-474 発行年： 1999年10月29日
JST資料番号： B0824A ISSN： 0009-2614 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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