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文献
J-GLOBAL ID：200902186846616029
整理番号：00A0086129
マイクロ波電場分布の制御による非常に均一な電子サイクロトロン共鳴プラズマの生成
Production of highly uniform electron cyclotron resonance plasmas by distribution control of the microwave electric field.
FURUSE M
(Hitachi Ltd., Kudamatsu, JPN)
,
WATANABE S
(Hitachi Ltd., Kudamatsu, JPN)
,
TAMURA H
(Hitachi Ltd., Tsuchiura, JPN)
,
FUKUMASA O
(Yamaguchi Univ., Ube, JPN)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻： 17 号： 6 ページ： 3225-3229 発行年： 1999年11月
JST資料番号： C0789B ISSN： 0734-2101 CODEN： JVTAD6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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