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文献
J-GLOBAL ID：200902187282383955
整理番号：96A0004639
高分子への25nm以下のバイアスとトレンチのプリント
Imprint of sub-25nm vias and trenches in polymers.
CHOU S Y
(Univ. Minnesota, Minnesota)
,
KRAUSS P R
(Univ. Minnesota, Minnesota)
,
RENSTROM P J
(Univ. Minnesota, Minnesota)
資料名：
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻： 67 号： 21 ページ： 3114-3116 発行年： 1995年11月20日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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