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文献
J-GLOBAL ID：200902187569741437
整理番号：02A0243235
SiH4/H2系の触媒化学蒸着におけるH原子の直接検出
Direct detection of H atoms in the catalytic chemical vapor deposition of the SiH4/H2 system.
UMEMOTO H
(Japan Advanced Inst. Sci. and Technol., Ishikawa, JPN)
,
OHARA K
(Japan Advanced Inst. Sci. and Technol., Ishikawa, JPN)
,
MORITA D
(Japan Advanced Inst. Sci. and Technol., Ishikawa, JPN)
,
NOZAKI Y
(Japan Advanced Inst. Sci. and Technol., Ishikawa, JPN)
,
MASUDA A
(Japan Advanced Inst. Sci. and Technol., Ishikawa, JPN)
,
MATSUMURA H
(Japan Advanced Inst. Sci. and Technol., Ishikawa, JPN)
資料名：
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻： 91 号： 3 ページ： 1650-1656 発行年： 2002年02月01日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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