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文献
J-GLOBAL ID：200902187588350759
整理番号：02A0936557
高圧下におけるGeS2ガラスに関するその場法EXAFS研究
In situ EXAFS study on GeS2 glass under high-pressure.
MIYAUCHI K
(Kobe Univ., Kobe, JPN)
,
QIU J
(Japan Advanced Inst. Sci. and Technol., Ishikawa, JPN)
,
SHOJIYA M
(Kobe Univ., Kobe, JPN)
,
KAWAMOTO Y
(Kobe Univ., Kobe, JPN)
,
KITAMURA N
(National Inst. Advanced Material Sci. and Technol., Osaka, JPN)
,
FUKUMI K
(National Inst. Advanced Material Sci. and Technol., Osaka, JPN)
,
KATAYAMA Y
(Japan Atomic Energy Res. Inst., Hyogo, JPN)
,
NISHIHATA Y
(Japan Atomic Energy Res. Inst., Hyogo, JPN)
資料名：
Solid State Communications
(Solid State Communications)
巻： 124 号： 5/6 ページ： 189-193 発行年： 2002年10月
JST資料番号： H0499A ISSN： 0038-1098 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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