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J-GLOBAL ID：200902187681519330 整理番号：93A0649404

光熱偏光分光法によるa-Si:H薄膜の再結合過程の検討

Study of recombination processes in a-Si:H film by photo-thermal deflection spectroscopy.

著者 (2件)：

梅津郁朗

(東京理大基礎工)

前田敬二

(東京理大基礎工)

資料名：

応用物理学関係連合講演会講演予稿集 (Extended Abstracts. Spring Meeting. Japan Society of Applied Physics and Related Societies)

巻： 40th 号： Pt 2 ページ： 820 発行年： 1993年03月
JST資料番号： Y0054A 資料種別：会議録 (C)
発行国：日本 (JPN) 言語：日本語 (JA)

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