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文献
J-GLOBAL ID：200902187923948605
整理番号：01A0931046
6DOF・Eビーム(電子ビーム)リソグラフィー・ステージのための制御設計
Control Design for a 6 DOF E-beam Lithography Stage.
YANG P-H
(Nikon Res. Corp. America, CA)
,
ALAMO B
(Ultratech Stepper Inc., CA)
,
ANDEEN G B
(Ion Diagnostics Inc., CA)
資料名：
Proceedings of the American Control Conference
(Proceedings of the American Control Conference)
巻： 2001 号： Vol.3 ページ： 2255-2260 発行年： 2001年
JST資料番号： B0982A ISSN： 0743-1619 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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