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文献
J-GLOBAL ID：200902188600589840
整理番号：00A0729029
ビス-トリメチルシリルメタン前駆体を用いたプラズマ増強化学蒸着により作製した低k Si-O-C-Hコンポジット膜
Low-k Si-O-C-H composite films prepared by plasma-enhanced chemical vapor deposition using bis-trimethylsilylmethane precursor.
KIM Y-H
(Seoul National Univ., Seoul, KOR)
,
LEE S-K
(Seoul National Univ., Seoul, KOR)
,
KIM H J
(Seoul National Univ., Seoul, KOR)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻： 18 号： 4,Pt.1 ページ： 1216-1219 発行年： 2000年07月
JST資料番号： C0789B ISSN： 0734-2101 CODEN： JVTAD6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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