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文献
J-GLOBAL ID：200902188709271092
整理番号：99A0245628
反応性イオンエッチングによる二次元フォトニック結晶のInPサブミクロン柱の加工
Fabrication of InP Submicron Pillars for Two-Dimensional Photonic Crystals by Reactive Ion Etching.
HATATE H
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
,
HASHIMOTO M
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
,
SHIRAKAWA H
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
,
FUJIWARA Y
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
,
TAKEDA Y
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
,
NAKANO H
(SAMCO International Inc., Kyoto, JPN)
,
TATSUTA T
(SAMCO International Inc., Kyoto, JPN)
,
TSUJI O
(SAMCO International Inc., Kyoto, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 37 号： 12B ページ： 7172-7176 発行年： 1998年12月
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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