文献
J-GLOBAL ID:200902188777902076
整理番号:94A0297924
反応性イオンめっきにより作製した透明低抵抗のIn2O3膜
Low-resistivity transparent In2O3 films prepared by reactive ion plating.
著者 (5件):
JEONG J I
(Research Inst. Industrial Science and Technology, Pohang, KOR)
,
MOON J H
(Research Inst. Industrial Science and Technology, Pohang, KOR)
,
HONG J H
(Research Inst. Industrial Science and Technology, Pohang, KOR)
,
KANG J S
(Research Inst. Industrial Science and Technology, Pohang, KOR)
,
LEE Y P
(Research Inst. Industrial Science and Technology, Pohang, KOR)
資料名:
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻:
64
号:
10
ページ:
1215-1217
発行年:
1994年03月07日
JST資料番号:
H0613A
ISSN:
0003-6951
CODEN:
APPLAB
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)