文献
J-GLOBAL ID:200902188822755071
整理番号:94A0139545
Edge location errors in Cr-less and rim-type phase-shifting lithography.
著者 (3件):
WEISS M
(Fraunhofer-Inst. Siliziumtechnologie, Berlin, DEU)
,
HENKE W
(Fraunhofer-Inst. Siliziumtechnologie, Berlin, DEU)
,
RONSE K
(IMEC v.z.w, Leuven, BEL)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻:
11
号:
6
ページ:
2659-2664
発行年:
1993年11月
JST資料番号:
E0974A
ISSN:
1071-1023
CODEN:
JVTBD9
資料種別:
逐次刊行物 (A)
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)