文献
J-GLOBAL ID:200902188948442788
整理番号:95A0517484
サファイア基板に成長させたGaNエピタキシャル層の熱応力
Thermal stress in GaN epitaxial layers grown on sapphire substrates.
著者 (6件):
KOZAWA T
(Toyota Central R&D Lab., Inc., Aichi, JPN)
,
KACHI T
(Toyota Central R&D Lab., Inc., Aichi, JPN)
,
KANO H
(Toyota Central R&D Lab., Inc., Aichi, JPN)
,
NAGASE H
(Toyota Central R&D Lab., Inc., Aichi, JPN)
,
KOIDE N
(Toyoda Gosei Co., Ltd., Aichi, JPN)
,
MANABE K
(Toyoda Gosei Co., Ltd., Aichi, JPN)
資料名:
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻:
77
号:
9
ページ:
4389-4392
発行年:
1995年05月01日
JST資料番号:
C0266A
ISSN:
0021-8979
CODEN:
JAPIAU
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)