文献
J-GLOBAL ID:200902189085350550
整理番号:00A0195949
堆積性のプラズマプロセシングにおける壁面制御のための交互イオン照射法
Alternating ion bombardment technique for wall surface control in depositive plasma processing.
著者 (4件):
NAKAMURA K
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
,
OHWAKI M
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
,
YONEDA S
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
,
SUGAI H
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻:
18
号:
1
ページ:
137-142
発行年:
2000年01月
JST資料番号:
C0789B
ISSN:
0734-2101
CODEN:
JVTAD6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)