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文献
J-GLOBAL ID：200902189257729750
整理番号：93A0673600
有機金属化学気相成長法で作製されたInAlAs層中の深いトラップに対するV/IIIモル比の影響
Influence of V/III Molar Ratio on Deep Traps in Metalorganic Chemical Vapor Deposition Grown InAlAs Layers.
NARITSUKA S
(Toshiba Corp., Kawasaki)
,
NODA T
(Toshiba Corp., Kawasaki)
,
WAGAI A
(Toshiba Corp., Kawasaki)
,
FUJITA S
(Toshiba Corp., Kawasaki)
,
ASHIZAWA Y
(Toshiba Corp., Kawasaki)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters)
巻： 32 号： 7A ページ： L925-L927 発行年： 1993年07月01日
JST資料番号： F0599B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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