文献
J-GLOBAL ID:200902189340617921
整理番号:98A0198019
DCマグネトロンスパッタリングによる透明導電性In4Sn3O12薄膜の作製
Preparation of transparent conducting In4Sn3O12 thin films by DC magnetron sputtering.
著者 (4件):
MINAMI T
(Kanazawa Inst. Technol., Ishikawa, JPN)
,
TAKEDA Y
(Kanazawa Inst. Technol., Ishikawa, JPN)
,
TAKATA S
(Kanazawa Inst. Technol., Ishikawa, JPN)
,
KAKUMU T
(Kanazawa Inst. Technol., Ishikawa, JPN)
資料名:
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻:
308/309
ページ:
13-18
発行年:
1997年10月31日
JST資料番号:
B0899A
ISSN:
0040-6090
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)