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文献
J-GLOBAL ID：200902189542197762
整理番号：97A0850939
193nmリソグラフィーのための化学的増幅型レジストの酸性増幅
Acid amplification of chemically amplified resists for 193nm lithography.
OHFUJI T
(ASET, Kanagawa, JPN)
,
TAKAHASHI M
(ASET, Kanagawa, JPN)
,
KUHARA K
(ASET, Kanagawa, JPN)
,
OGAWA T
(ASET, Kanagawa, JPN)
,
OHTSUKA H
(ASET, Kanagawa, JPN)
,
SASAGO M
(ASET, Kanagawa, JPN)
,
ICHIMURA K
(Tokyo Inst. Technol., Kanagawa, JPN)
資料名：
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻： 3049 ページ： 76-82 発行年： 1997年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別： 会議録 (C)
発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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