文献
J-GLOBAL ID:200902189738145426
整理番号:01A0157073
157nmレジスト材料 経過報告
157nm resist materials: Progress report.
著者 (9件):
BRODSKY C
(Univ. Texas at Austin, Texas)
,
BYERS J
(Univ. Texas at Austin, Texas)
,
CONLEY W
(Univ. Texas at Austin, Texas)
,
HUNG R
(Univ. Texas at Austin, Texas)
,
YAMADA S
(Univ. Texas at Austin, Texas)
,
PATTERSON K
(Univ. Texas at Austin, Texas)
,
SOMERVELL M
(Univ. Texas at Austin, Texas)
,
TRINQUE B
(Univ. Texas at Austin, Texas)
,
WILLSON C G
(Univ. Texas at Austin, Texas)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻:
18
号:
6
ページ:
3396-3401
発行年:
2000年11月
JST資料番号:
E0974A
ISSN:
1071-1023
CODEN:
JVTBD9
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)