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文献
J-GLOBAL ID：200902189945532421
整理番号：95A0692022
化学増幅レジスト法の安定化
Stabilization of the Chemically Amplified Resist Process.
OIKAWA A
(Fujitsu Ltd., Kawasaki, JPN)
,
HATAKENAKA Y
(Fujitsu VLSI Ltd., Kuwana-gun, JPN)
,
IKEDA Y
(Fujitsu Ltd., Kawasaki, JPN)
,
KOKUBO Y
(Fujitsu Ltd., Kawasaki, JPN)
,
MIYATA S
(Fujitsu Ltd., Kawasaki, JPN)
,
SANTOH N
(Fujitsu Ltd., Kawasaki, JPN)
,
ABE N
(Fujitsu Ltd., Kawasaki, JPN)
資料名：
Journal of Photopolymer Science and Technology
(Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 8 号： 4 ページ： 519-524 発行年： 1995年
JST資料番号： L0202A ISSN： 0914-9244 CODEN： JSTEEW 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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