文献
J-GLOBAL ID:200902190026998757
整理番号:95A0707695
GaAs/GaSb/Siヘテロ構造に対する熱アニーリングによる転位密度の低減
Reduction of dislocation density by thermal annealing for GaAs/GaSb/Si heterostructure.
著者 (5件):
UCHIDA H
(Nagoya Inst. Technol., Nagoya, JPN)
,
SOGA T
(Nagoya Inst. Technol., Nagoya, JPN)
,
NISHIKAWA H
(Nagoya Inst. Technol., Nagoya, JPN)
,
JIMBO T
(Nagoya Inst. Technol., Nagoya, JPN)
,
UMENO M
(Nagoya Inst. Technol., Nagoya, JPN)
資料名:
Journal of Crystal Growth
(Journal of Crystal Growth)
巻:
150
号:
1/4 Pt 1
ページ:
681-684
発行年:
1995年
JST資料番号:
B0942A
ISSN:
0022-0248
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)