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文献
J-GLOBAL ID:200902190026998757   整理番号:95A0707695

GaAs/GaSb/Siヘテロ構造に対する熱アニーリングによる転位密度の低減

Reduction of dislocation density by thermal annealing for GaAs/GaSb/Si heterostructure.
著者 (5件):
UCHIDA H
(Nagoya Inst. Technol., Nagoya, JPN)
SOGA T
(Nagoya Inst. Technol., Nagoya, JPN)
NISHIKAWA H
(Nagoya Inst. Technol., Nagoya, JPN)
JIMBO T
(Nagoya Inst. Technol., Nagoya, JPN)
UMENO M
(Nagoya Inst. Technol., Nagoya, JPN)

資料名:
Journal of Crystal Growth  (Journal of Crystal Growth)

巻: 150  号: 1/4 Pt 1  ページ: 681-684  発行年: 1995年 
JST資料番号: B0942A  ISSN: 0022-0248  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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