文献
J-GLOBAL ID:200902190104370140
整理番号:97A0131743
パルスマグネトロンスパッタリングによって反応性蒸着したAl2O3層の構造と特性に及ぼす被覆パラメータの影響
Influence of coating parameters on the structure and properties of Al2O3 layers reactively deposited by means of pulsed magnetron sputtering.
著者 (2件):
ZYWITZKI O
(Fraunhofer-Inst. Elektronenstrahl- und Plasmatechnik, Dresden, DEU)
,
HOETZSCH G
(Fraunhofer-Inst. Elektronenstrahl- und Plasmatechnik, Dresden, DEU)
資料名:
Surface & Coatings Technology
(Surface & Coatings Technology)
巻:
86/87
号:
1/3 Pt 2
ページ:
640-647
発行年:
1996年12月15日
JST資料番号:
D0205C
ISSN:
0257-8972
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)