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文献
J-GLOBAL ID：200902190207610513
整理番号：01A0714086
パルスレーザ蒸着によるSiと非晶質基板上の酸化亜鉛薄膜における初期の選択成長
Initial preferred growth in zinc oxide thin films on Si and amorphous substrates by a pulsed laser deposition.
CHOI J H
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
TABATA H
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
KAWAI T
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
資料名：
Journal of Crystal Growth
(Journal of Crystal Growth)
巻： 226 号： 4 ページ： 493-500 発行年： 2001年08月
JST資料番号： B0942A ISSN： 0022-0248 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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