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文献
J-GLOBAL ID：200902190252565316
整理番号：93A0912335
新しい高周波誘導プラズマプロセシング技術
Novel radio-frequency induction plasma processing techniques.
KELLER J H
(IBM East Fishkill Facility, New York)
,
FORSTER J C
(IBM East Fishkill Facility, New York)
,
BARNES M S
(IBM East Fishkill Facility, New York)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻： 11 号： 5 ページ： 2487-2491 発行年： 1993年09月
JST資料番号： C0789B ISSN： 0734-2101 CODEN： JVTAD6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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