文献
J-GLOBAL ID:200902190289101336
整理番号:93A0788013
静的及び流動条件下でのR7T7ガラスの溶解 浸漬層中でのSiの拡散機構の影響
Dissolution of R7T7 glass in static and flowing conditions: Influence of Si diffusion mechanism in the leached layer.
著者 (3件):
DELAGE F
(CEN-VALRHO, Bagnols-sur-Ceze, FRA)
,
LARCHE F
(Univ. Montpellier II, Montpellier, FRA)
,
VERNAZ E
(CEN-VALRHO, Bagnols-sur-Ceze, FRA)
資料名:
Scientific Basis for Nuclear Waste Management 16
(Scientific Basis for Nuclear Waste Management 16)
ページ:
171-176
発行年:
1993年
JST資料番号:
K19930454
ISBN:
1-55899-189-1
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)