文献
J-GLOBAL ID:200902190468398520
整理番号:00A0122624
薄いレジスト過程を用いたKrF像形成の130nmデバイス作製への応用
Application of a thin-resist process for KrF imaging to 130nm device fabrication.
著者 (6件):
AZUMA T
(Toshiba Corp., Yokohama, JPN)
,
CHIBA K
(Toshiba Corp., Yokohama, JPN)
,
KAWAMURA D
(Toshiba Corp., Yokohama, JPN)
,
MIYOSHI S
(Toshiba Corp., Yokohama, JPN)
,
OZAKI T
(Toshiba Corp., Yokohama, JPN)
,
KAGEYAMA H
(Toshiba Corp., Yokohama, JPN)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻:
17
号:
6
ページ:
2519-2523
発行年:
1999年11月
JST資料番号:
E0974A
ISSN:
1071-1023
CODEN:
JVTBD9
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)