文献
J-GLOBAL ID:200902190581337545
整理番号:95A0539335
アナログレジスト上の電子ビーム直接描画及び単独化学支援イオンビームエッチングステップを用いたモノリシック回折光学素子の製造
Fabrication of monolithic diffractive optical elements by the use of e-beam direct write on an analog resist and a single chemically assisted ion-beam-etching step.
著者 (3件):
DAESCHNER W
(Univ. California, San Diego, California)
,
LARSSON M
(Univ. California, San Diego, California)
,
LEE S H
(Univ. California, San Diego, California)
資料名:
Applied Optics
(Applied Optics)
巻:
34
号:
14
ページ:
2534-2539
発行年:
1995年05月10日
JST資料番号:
B0026B
ISSN:
1559-128X
CODEN:
APOPAI
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)