文献
J-GLOBAL ID:200902190622471979
整理番号:00A0223381
HF清浄化後の水素終端Si(001)表面の原子的分解能の走査トンネル顕微鏡観察
Atomically resolved scanning tunneling microscopy of hydrogen-terminated Si(001) surfaces after HF cleaning.
著者 (6件):
ARIMA K
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
ENDO K
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
KATAOKA T
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
OSHIKANE Y
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
INOUE H
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
MORI Y
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
資料名:
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻:
76
号:
4
ページ:
463-465
発行年:
2000年01月24日
JST資料番号:
H0613A
ISSN:
0003-6951
CODEN:
APPLAB
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)