文献
J-GLOBAL ID:200902190657208162
整理番号:93A0936795
LPCVD of Al2O3 layers using a hot-wall reactor.
著者 (3件):
LABATUT C
(Inst. Science et de G<span style=text-decoration:overline>e ́</span>nie des Mat<span style=text-decoration:overline>e ́</span>riaux et Proc<span style=text-decoration:overline>e ́</span>d<span style=text-decoration:overline>e ́</span>s, CNRS, Font Romeu, FRA)
,
COMBESCURE C
(Inst. Science et de G<span style=text-decoration:overline>e ́</span>nie des Mat<span style=text-decoration:overline>e ́</span>riaux et Proc<span style=text-decoration:overline>e ́</span>d<span style=text-decoration:overline>e ́</span>s, CNRS, Font Romeu, FRA)
,
ARMAS B
(Inst. Science et de G<span style=text-decoration:overline>e ́</span>nie des Mat<span style=text-decoration:overline>e ́</span>riaux et Proc<span style=text-decoration:overline>e ́</span>d<span style=text-decoration:overline>e ́</span>s, CNRS, Font Romeu, FRA)
資料名:
Journal de Physique. 4. Proceedings
(Journal de Physique. 4. Proceedings)
巻:
3
号:
C3
ページ:
589-596
発行年:
1993年08月
JST資料番号:
A0743C
ISSN:
1155-4339
資料種別:
会議録 (C)
発行国:
フランス (FRA)
言語:
英語 (EN)