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文献
J-GLOBAL ID：200902190755728530
整理番号：01A0749914
歪んだSi/Si0.7Ge0.3ヘテロ構造の熱安定性
Thermal stability of the strained-Si/Si0.7Ge0.3 heterostructure.
SUGII N
(Hitachi Ltd., Tokyo, JPN)
資料名：
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻： 89 号： 11,Pt.1 ページ： 6459-6463 発行年： 2001年06月01日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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