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文献
J-GLOBAL ID：200902190911047816
整理番号：02A0127190
Effect of Reactive Ambient on AlN Sublimation Growth.
KARPOV S YU
(Soft-Impact, Ltd., St. Petersburg, RUS)
,
KULIK A V
(Soft-Impact, Ltd., St. Petersburg, RUS)
,
SEGAL A S
(Soft-Impact, Ltd., St. Petersburg, RUS)
,
RAMM M S
(A.F. Ioffe Physical-Technical Inst., RAS, St. Petersburg, RUS)
,
MAKAROV YU N
(STR, Inc., VA, USA)
資料名：
Physica Status Solidi. A. Applied Research
(Physica Status Solidi. A. Applied Research)
巻： 188 号： 2 ページ： 763-767 発行年： 2001年11月23日
JST資料番号： D0774A ISSN： 0031-8965 資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： ドイツ (DEU) 言語： 英語 (EN)
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