文献
J-GLOBAL ID:200902191632372550
整理番号:01A0700197
液体ソース化学気相蒸着により作製した(Ba,Sr)TiO3薄膜中の原子的混入率の測定と表面反応の模型化
Measurement of Atomic Incorporation Rates and Modeling of Surface Reactions in (Ba,Sr)TiO3 Films Prepared by a Liquid Source Chemical Vapor Deposition.
著者 (6件):
YAMAMUKA M
(Mitsubishi Electric Corp., Hyogo, JPN)
,
KAWAHARA T
(Mitsubishi Electric Corp., Hyogo, JPN)
,
TARUTANI M
(Mitsubishi Electric Corp., Hyogo, JPN)
,
HORIKAWA T
(Mitsubishi Electric Corp., Hyogo, JPN)
,
SHIBANO T
(Mitsubishi Electric Corp., Hyogo, JPN)
,
OOMORI T
(Mitsubishi Electric Corp., Hyogo, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻:
40
号:
5A
ページ:
3435-3441
発行年:
2001年05月15日
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)