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文献
J-GLOBAL ID：200902191732574028
整理番号：95A0133423
将来のシリコン技術の動向
Trends for Future Silicon Technology.
OHMI T
(Tohoku Univ., Sendai)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 33 号： 12B ページ： 6747-6755 発行年： 1994年12月
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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