文献
J-GLOBAL ID:200902191948774226
整理番号:01A0157095
X線リソグラフィーによるサブマイクロメータ分解能の三次元フォトニック構造の作製
Fabrication of three-dimensional photonic structures with submicrometer resolution by x-ray lithography.
著者 (5件):
CUISIN C
(Univ. Paris Sud, Orsay, FRA)
,
CHELNOKOV A
(Univ. Paris Sud, Orsay, FRA)
,
LOURTIOZ J-M
(Univ. Paris Sud, Orsay, FRA)
,
DECANINI D
(Lab. Microstructures et de Microelectronique, CNRS, Bagneux, FRA)
,
CHEN Y
(Lab. Microstructures et de Microelectronique, CNRS, Bagneux, FRA)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻:
18
号:
6
ページ:
3505-3509
発行年:
2000年11月
JST資料番号:
E0974A
ISSN:
1071-1023
CODEN:
JVTBD9
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)