文献
J-GLOBAL ID:200902192274506570
整理番号:01A0758378
インプリントリソグラフィー用のモールドの表面処理
Mold Surface Treatment for Imprint Lithography.
著者 (8件):
HIRAI Y
(Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
,
YOSHIDA S
(Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
,
OKAMOTO A
(Technol. Res. Inst. Osaka Prefecture, Osaka, JPN)
,
TANAKA Y
(Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
,
ENDO M
(Matsushita Electronics Corp., Kyoto, JPN)
,
IRIE S
(Matsushita Electronics Corp., Kyoto, JPN)
,
NAKAGAWA H
(Matsushita Electronics Corp., Kyoto, JPN)
,
SASAGO M
(Matsushita Electronics Corp., Kyoto, JPN)
資料名:
Journal of Photopolymer Science and Technology
(Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻:
14
号:
3
ページ:
457-462
発行年:
2001年
JST資料番号:
L0202A
ISSN:
0914-9244
CODEN:
JSTEEW
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)