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J-GLOBAL ID：200902192338139657 整理番号：97A0526227

エピタキシャルGe被覆Si(100)表面の酸化速度

Oxidation kinetics of epitaxial Ge-covered Si(100) surfaces.

著者 (2件)：

FUKUDA T

(NTT Basic Res. Lab., Kanagawa, JPN)

OGINO T

(NTT Basic Res. Lab., Kanagawa, JPN)

資料名：

Surface Science (Surface Science)

巻： 380 号： 1 ページ： L469-L473 発行年： 1997年05月01日
JST資料番号： C0129B ISSN： 0039-6028 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：短報発行国：オランダ (NLD) 言語：英語 (EN)

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