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文献
J-GLOBAL ID：200902192370931435
整理番号：01A0772371
非常に低い温度における光およびプラズマCVDで成長させた引張り歪をもつSi1-yCy合金の評価
Characterization of Tensile Strained Si1-yCy Alloy Grown by Photo- and Plasma Chemical Vapor Deposition at Very Low Temperature.
ABE K
(Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
,
YAGI S
(Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
,
OKABAYASHI T
(Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
,
YAMADA A
(Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
,
KONAGAI M
(Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 40 号： 7 ページ： 4440-4444 発行年： 2001年07月15日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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