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J-GLOBAL ID：200902192412392424 整理番号：94A0124152

Acid-catalyzed single-layer resists for ArF lithography.

著者 (4件)：

KUNZ R R

(Massachusetts Inst. Technology, MA)

ALLEN R D

(IBM Research Division, CA)

HINSBERG W D

(IBM Research Division, CA)

WALLRAFF G M

(IBM Research Division, CA)

資料名：

Proceedings of SPIE (Proceedings of SPIE)

巻： 1925 ページ： 167-175 発行年： 1993年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別：会議録 (C)
発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

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