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文献
J-GLOBAL ID：200902192479788608
整理番号：99A0632166
フッ化水素酸蒸気分解/マイクロコンセントリックネブライザー誘導結合プラズマ質量分析法によるシリコンウェハー表面の超微量ゲルマニウムの定量
Determination of ultra-trace germanium on a silicon wafer by hydrofluoric acid vapor-decomposition/ microconcentric nebulizer-ICP-MS.
藤原健児
(松下電子工業 電子総研)
,
東森陽子
(松下電子工業 電子総研)
,
光亦博志
(松下電子工業 電子総研)
,
稲田雅紀
(松下電子工業 電子総研)
,
中原武利
(大阪府大 工)
資料名：
分析化学
巻： 48 号： 7 ページ： 681-685 発行年： 1999年07月05日
JST資料番号： F0008A ISSN： 0525-1931 CODEN： BNSKAK 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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