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文献
J-GLOBAL ID:200902192479788608   整理番号:99A0632166

フッ化水素酸蒸気分解/マイクロコンセントリックネブライザー誘導結合プラズマ質量分析法によるシリコンウェハー表面の超微量ゲルマニウムの定量

Determination of ultra-trace germanium on a silicon wafer by hydrofluoric acid vapor-decomposition/ microconcentric nebulizer-ICP-MS.
著者 (5件):
藤原健児
(松下電子工業 電子総研)
東森陽子
(松下電子工業 電子総研)
光亦博志
(松下電子工業 電子総研)
稲田雅紀
(松下電子工業 電子総研)
中原武利
(大阪府大 工)

資料名:
分析化学

巻: 48  号:ページ: 681-685  発行年: 1999年07月05日 
JST資料番号: F0008A  ISSN: 0525-1931  CODEN: BNSKAK  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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