文献
J-GLOBAL ID:200902192513105507
整理番号:01A0777330
CVD-Ta2O5,ZrO2膜の表面ラフネス低減
New deposition technique of CVD-Ta2O5, ZrO2 films for reducing surface roughness.
著者 (3件):
高橋毅
(東京エレクトロンAT 枚葉成膜システム開発本部)
,
青山真太郎
(東京エレクトロンAT 枚葉成膜システム開発本部)
,
神力博
(東京エレクトロンAT 枚葉成膜システム開発本部)
資料名:
電子情報通信学会技術研究報告
(IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
巻:
101
号:
108(SDM2001 53-58)
ページ:
7-12
発行年:
2001年06月08日
JST資料番号:
S0532B
ISSN:
0913-5685
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
日本語 (JA)